工作原理

69XCL基于透反偏光技術(shù)，支持透射與反射兩種觀察模式：透射模式下，光源從下方照射樣品，光線穿過樣本后由物鏡收集，形成內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖像；反射模式下，光源從上方照射，樣品表面反射光線進入物鏡，清晰呈現(xiàn)表面細節(jié)。偏光功能通過起偏器與檢偏器分析樣品的各向異性（如雙折射、消光現(xiàn)象），三目鏡筒設(shè)計可同時連接目鏡與數(shù)碼設(shè)備，實現(xiàn)觀察與記錄同步進行。

應用范圍

適用于金屬材料組織分析（如晶界、相組成）、礦物晶體結(jié)構(gòu)鑒定、半導體晶圓缺陷檢測、陶瓷材料表面形貌觀察，以及生物醫(yī)學中特殊樣本（如淀粉粒、纖維組織）的偏光分析。廣泛服務于高校實驗室、科研院所、地質(zhì)勘探及工業(yè)質(zhì)檢機構(gòu)，助力材料性能評估與工藝優(yōu)化。

產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)

物鏡配置：5×、10×、20×、50×（無限遠消色差，透反兼容）

總放大倍數(shù)：50X-1000X

觀察模式：透射/反射偏光、明場可切換

載物臺：360°旋轉(zhuǎn)式（直徑130mm，帶刻度）

光源：透射鹵鎢燈12V30W + 反射LED冷光源（亮度可調(diào)）

濾色片：綠、藍濾光片（插板式）

聚光鏡：阿貝聚光鏡1.25NA（透射模式）

攝像頭接口：C型接口（支持1000萬像素數(shù)碼成像）

電源：AC 220V/50Hz

產(chǎn)品特點

透反雙模式：支持透射與反射偏光觀察，適配透明（如礦物薄片）與不透明（如金屬）樣品分析。

高精度偏光成像：采用無限遠消色差物鏡，消除像差，提升雙折射圖像清晰度。

360°旋轉(zhuǎn)載物臺：配備刻度旋轉(zhuǎn)載物臺，便于觀察樣品各向異性特征。

三目數(shù)字化設(shè)計：支持1000萬像素攝像頭與圖像分析軟件，實現(xiàn)定量測量與數(shù)據(jù)保存。

人性化操作：45°鉸鏈式觀察筒、可調(diào)目鏡（屈光度±5D），減少長時間操作疲勞。