納米膜層磁控濺射系統(tǒng) 354     

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DE500DL納米膜層磁控濺射系統(tǒng)配備多個(gè)磁控濺射源，可沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應(yīng)濺射、可選濺射楔形膜等。是材料和薄膜沉積研發(fā)和中試的理想平臺(tái)。

真空氬氣保護(hù)焊接艙 354     

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真空氬氣保護(hù)焊接艙：普通零件及復(fù)雜密封箱形零件的焊接。

金剛石線切割機(jī) 354     

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Diamond WireTec公司生產(chǎn)的金剛石線切割機(jī)能夠?qū)Ρ姸嗖牧蠘悠愤M(jìn)行很好的分離切割，例如玻璃，陶瓷，塑料，金屬合金等等，然而，金剛石線切割機(jī)常見的應(yīng)用還是切割各種不同的物質(zhì)----我們所謂的雜化材料。

高速金剛石環(huán)線切割機(jī) 432     

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DWS250E金剛石線鋸是一種立式單向運(yùn)行的臺(tái)式線鋸。它可處理的工件切割截面為H250xT250mm。金剛石封閉線圈的周長為2米，適配的線圈外徑從0.35~0.60mm。線速可從4m/s~12m/s 連續(xù)可調(diào)。采用重力進(jìn)給的方式，及保證了進(jìn)給壓力的恒等，也減少了輔助裝備帶來的額外震動(dòng)，噪音以及維護(hù)和更新的成本壓力及麻煩。該線鋸可對工件進(jìn)行干切或濕切的處理。

自動(dòng)鑲嵌機(jī) 435     

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ZXQ-1自動(dòng)鑲嵌機(jī)是一款用于金相巖相試樣制備的設(shè)備，主要用于對微小、不易手拿或不規(guī)則的試樣進(jìn)行鑲嵌處理，以便后續(xù)的磨拋操作和在金相顯微鏡下的觀察。該設(shè)備能夠自動(dòng)加溫、加壓，壓制成形后自動(dòng)停機(jī)卸壓，操作簡便，只需按下按鈕即可完成樣件的自動(dòng)壓制和取出。它適用于熱固性材料（如電玉粉、膠木粉等），溫度已預(yù)先調(diào)整并實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制。ZXQ-1支持多種試樣壓制規(guī)格，包括Φ22mm、Φ30mm和Φ45mm，配備220V、650W的加熱器，總電源功率為1000W。其外形尺寸為380×350×420mm，凈重50kg，結(jié)構(gòu)穩(wěn)固，適合實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)

金相試樣鑲嵌機(jī) 329     

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XQ-2B型金相試樣鑲嵌機(jī)（以下簡稱鑲嵌機(jī)）適用于對不是整形、不易于拿的微小金相試樣進(jìn)行熱固性塑料壓制。成形后可方便地進(jìn)行試樣磨拋操作、也有利于在金相顯微鏡下進(jìn)行組織測定。

金相預(yù)磨機(jī) 387     

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在金相試樣制備過程中，試樣的預(yù)磨，是拋光前必不可少的前道工序,先將試樣預(yù)磨光后，可大大提高試樣制備的功效。M-2型金相預(yù)磨機(jī)，是通過對多方面的調(diào)研和采集多方面使用人員的意見及要求設(shè)計(jì)而成，該機(jī)配各美觀實(shí)用的玻璃鋼外殼，完全使用不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)件。機(jī)體永不生銹，從而大大增強(qiáng)了產(chǎn)品的使用性能，使該機(jī)成為試樣預(yù)磨的理想設(shè)備。

金相拋光機(jī) 437     

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P-2G型金相拋光機(jī)是一款高性能的金相試樣拋光設(shè)備，專為滿足多種材料的拋光需求而設(shè)計(jì)。它采用直徑為Φ203mm的拋盤，標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)速為1400r/min，也可根據(jù)用戶需求定制900r/min的轉(zhuǎn)速。設(shè)備支持220V、50Hz或380V、50Hz的電源選項(xiàng)，適應(yīng)不同環(huán)境的用電需求。其外形尺寸為810×470×980mm，凈重75kg，結(jié)構(gòu)穩(wěn)固，運(yùn)行平穩(wěn)。該拋光機(jī)具有傳動(dòng)平穩(wěn)、噪音小、操作維修方便等優(yōu)點(diǎn)，能夠?qū)⒔?jīng)過磨光的試樣拋光至光亮如鏡的表面，適用于金相試樣制備過程中的關(guān)鍵工序，是實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)現(xiàn)場的理想選擇。

金相拋光機(jī) 375     

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P-1型金相拋光機(jī)是一款專為金屬材料金相分析設(shè)計(jì)的設(shè)備，適用于對經(jīng)磨光后的金屬試樣進(jìn)行拋光處理，可獲得光亮如鏡的金屬表面，便于在顯微鏡下觀察與測定金相組織。該拋光機(jī)的拋盤直徑為Φ200mm，轉(zhuǎn)速為1400r/min，也可根據(jù)需求定制900r/min的轉(zhuǎn)速。電源為220V、50Hz或380V、50Hz（定制），外形尺寸為450×390×280mm，凈重16kg，結(jié)構(gòu)緊湊，操作簡便，適合實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)現(xiàn)場使用。

立式螺桿羅茨真空泵機(jī)組 530     

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立式螺桿羅茨真空泵機(jī)組適用于小于等于26OL/S抽速，極限真空大于5Pa的真空獲得環(huán)境，廣泛應(yīng)用于石油化工、制藥、食品、醫(yī)藥中間體、精細(xì)化工、農(nóng)藥、光伏電子、環(huán)境保護(hù)等行業(yè)的各種工藝。本系列真空泵能抽出大量二氯甲烷、正己烷、環(huán)己烷、丙酮、四氫呋喃、苯、甲苯、汽油、氫氣、硅烷、氨氣等介質(zhì)。

臥式螺桿羅茨真空泵機(jī)組 514     

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臥式螺桿真空泵真空組適用于小于等于30OL/S抽速，極限真空大于5Pa的真空獲得環(huán)境，廣泛應(yīng)用于石油化工、制藥、食品、精細(xì)化工、光伏電子等行業(yè)的各種工藝。本系列真空泵能抽出空氣、二氯甲烷、正己烷、環(huán)己烷、丙酮、四氫味喃、苯、甲苯、汽油、氫氣、硅烷、氨氣等氣體介質(zhì)。

硅芯爐 351     

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SR110硅芯爐的工作方式與區(qū)熔系統(tǒng)類似。該系統(tǒng)使用一個(gè)在高頻感應(yīng)線圈下直徑為100毫米的多晶硅棒(源棒)。根據(jù)硅棒的長度，在多個(gè)拉動(dòng)工藝中可以產(chǎn)生特定數(shù)量的硅芯;然后這些硅芯被用作西門子下游工藝中的原棒。通過隔離閥將接收爐體與工藝爐體分開，可以將完成的硅芯取出，并立即開始下一個(gè)工藝。通過引入擴(kuò)散到熔體中的工藝氣體可以對細(xì)桿進(jìn)行摻雜處理。

區(qū)熔晶體生長系統(tǒng) 382     

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FZ-14 區(qū)熔晶體生長系統(tǒng)是專為工業(yè)生產(chǎn)直徑達(dá)100毫米(4英寸)的單晶硅晶體而設(shè)計(jì)。根據(jù)源棒的尺寸，可以拉出長度達(dá)1. 1米的晶體。在這個(gè)過程中，晶體的直徑和液體區(qū)的高度可以通過攝像系統(tǒng)來監(jiān)測。并且該系統(tǒng)的上部主軸和線圈都是自動(dòng)定位的。該系統(tǒng)采用無接觸熔化工藝，通過使用渦輪分子泵和超純氬氣作為工藝氣體，產(chǎn)生高極限真空環(huán)境，有效地防止了工藝過程中的污染，同時(shí)還能將氮?dú)庖允芸氐姆绞揭牍に嚑t體。

直拉法晶體生長系統(tǒng)（單晶爐） 500     

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專為符合半導(dǎo)體行業(yè)的嚴(yán)格要求而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合獨(dú)特的晶體軸配置能夠達(dá)到最高的精度，因此確保了提拉速度的線性可調(diào)和可重復(fù)性。

離子氮化爐 409     

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PulsPlasma? 離子氮化設(shè)備是一款用于等離子體擴(kuò)散工藝的真空爐，它可使零件表面富含氮和/或碳，從而提高耐磨損和耐腐蝕能力。PlaTeG脈沖等離子體?擴(kuò)散工藝，特別是PulsPlasma?脈沖離子氮化(PPNTM)和PulsPlasma?脈沖離子氮碳共滲(PPNCTM)應(yīng)用了等離子體擴(kuò)散方法，相比于傳統(tǒng)的氮化工藝(如鹽浴軟氮化或氣體氮化)，它為客戶提供了眾多優(yōu)勢，而且對環(huán)境友好，有助于節(jié)約資源。

石墨純化爐和涂層爐 371     

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COV型真空爐，其特點(diǎn)在于加熱器和由石墨或碳碳復(fù)合纖維制成以及墨氈制成的隔熱層，是用于高溫工藝的電阻加熱批次爐系統(tǒng)。為氮化硼，碳化硅，氮化硅和熱解碳等應(yīng)用提供非標(biāo)定制CVD/CVI反應(yīng)爐以及氟離子清洗 & CVA 爐。提供定制化陶瓷基復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積(CVD和CVI)交鑰匙系統(tǒng)和解決方案。

石墨電阻加熱真空熱處理爐 388     

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COV型真空爐能夠在設(shè)計(jì)、有效空間尺寸、真空和工作溫度方面按客戶要求定制，此類爐型是雙層水冷式爐殼，以及配備由石墨或碳纖維復(fù)合材料(CFC)制成的加熱元件。

金屬電阻加熱真空熱處理爐 375     

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PVA TePla公司MOV型真空爐是電阻加熱熱處理爐，加熱元件采用鉬或鎢等難熔金屬制成。熱量是通過輻射熱從加熱器直接傳輸?shù)酱幚懋a(chǎn)品中。MOV爐可完美應(yīng)用于需要高純度和無碳爐內(nèi)氣氛的通用熱處理工藝，要求苛刻的材料、以及制造及實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。

自動(dòng)金相試樣磨拋機(jī) 389     

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YMPZ-2型自動(dòng)金相試樣磨拋機(jī)是采用單片機(jī)控制的研磨拋光設(shè)備，機(jī)身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經(jīng)久耐用;牢固的大型支撐底盤設(shè)計(jì)確保了精密的回轉(zhuǎn)平衡度;磨盤無級調(diào)速或四檔調(diào)速，可切換旋轉(zhuǎn)方向;電機(jī)為直流無刷電機(jī)，使用壽命長且噪音低，強(qiáng)大的電機(jī)扭力帶來強(qiáng)大的動(dòng)力;主軸防漏設(shè)計(jì), 確保了幾乎不會(huì)損壞的軸承;配備冷卻水管，可調(diào)整旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行濕磨;配備磨盤底部沖洗功能，防止磨削物累積沉淀;磨盤部分采用磁性設(shè)計(jì)，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經(jīng)特氟龍?zhí)幚?，無砂紙拋布黏連殘留;磨頭采用電動(dòng)鎖緊裝置，具備定時(shí)功

單頭自動(dòng)磨拋機(jī) 446     

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產(chǎn)品特點(diǎn)：*中心壓力、單點(diǎn)壓力兩種運(yùn)行模式，可根據(jù)工況選擇適用的方式；*試樣夾盤可快速裝卸轉(zhuǎn)換，靈活使用不同口徑夾盤；

臺(tái)式磨平磨拋一體機(jī) 343     

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YMPZ-2B-300臺(tái)式磨平磨拋一體機(jī)是采用單片機(jī)控制的研磨拋光設(shè)備，雙盤獨(dú)立設(shè)計(jì)，左盤采用磁性盤設(shè)計(jì)，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經(jīng)特氟龍?zhí)幚?，無砂紙拋布黏連殘留;右盤采用砂輪系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)試樣的自動(dòng)粗磨。機(jī)身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經(jīng)久耐用。

雙盤金相試樣磨拋機(jī) 435     

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YMP-2-300(250)型金相試樣磨拋機(jī)是采用單片機(jī)控制的研磨拋光設(shè)備，雙盤獨(dú)立控制，機(jī)身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經(jīng)久耐用;精密鑄鐵支撐底盤設(shè)計(jì)，確保了精密的回轉(zhuǎn)平衡度;電機(jī)為直流無刷電機(jī)，使用壽命長且噪音低，強(qiáng)大的電機(jī)扭力帶來強(qiáng)大的動(dòng)力;磨盤無級調(diào)速，可切換旋轉(zhuǎn)方向，壓制鋁材質(zhì)三點(diǎn)支撐結(jié)構(gòu)，更加堅(jiān)固平穩(wěn);配備磁性盤設(shè)計(jì)，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經(jīng)特氟龍?zhí)幚?，無砂紙拋布黏連殘留;主軸防漏設(shè)計(jì), 確保了幾乎不會(huì)損壞的軸承;配備冷卻水管，可調(diào)整旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行濕磨;電磁水閥控制，自動(dòng)出水停水;顯示直

金相試樣預(yù)磨機(jī) 425     

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在金相試樣制備過程中，試樣的預(yù)磨是拋光前必不可少的前道工序，經(jīng)過粗磨、細(xì)磨、精磨后的試樣，方可進(jìn)行有效拋光。YM-1B型金相試樣預(yù)磨機(jī)是一款經(jīng)典產(chǎn)品，外殼采用ABS材料一體成型，轉(zhuǎn)速可視化，配備濕磨用供水系統(tǒng)以防止因試樣過熱而破壞金相組織，它具有傳動(dòng)平穩(wěn)、噪音小、操作及維護(hù)方便等優(yōu)點(diǎn)，適用于多種材料的預(yù)磨要求。

金相試樣切割機(jī) 332     

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QG-3金相試樣切割機(jī)適用于一般金相和巖相試樣材料的切割，通過拉動(dòng)主軸利用主軸重力進(jìn)行對試樣的切割，轉(zhuǎn)速高，切割能力強(qiáng);雙邊夾具結(jié)構(gòu)，牢牢固定試樣;夾具鉗口和工作臺(tái)面等主要零部件均采用不銹鋼材料制成，使用壽命長，維護(hù)保養(yǎng)方便;切割室采用封閉式結(jié)構(gòu)，罩蓋左側(cè)開口，可切割長條型試樣，配備安全限位開關(guān)，透明有機(jī)玻璃窗口和內(nèi)置LED照明燈供切割時(shí)觀察;并配備循環(huán)冷卻系統(tǒng)，切割后的試樣表面光亮、平整，無燒傷，是切割試樣的理想設(shè)備。本產(chǎn)品分為臺(tái)式和落地式，供客戶選擇。

自動(dòng)精密研磨拋光機(jī) 382     

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UNIPOL-1202自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣，是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或?qū)蔷€長≤105mm的矩形平面。

熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 501     

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GKI-22熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是一種用于薄膜制備的高真空鍍膜設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)及電子器件等領(lǐng)域。該設(shè)備通過加熱蒸發(fā)源使材料氣化，并在基片上沉積形成薄膜，適用于金屬、有機(jī)物及無機(jī)化合物等多種材料的鍍膜。其核心部件包括高真空腔體、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、真空系統(tǒng)及膜厚監(jiān)控系統(tǒng)，具備高真空度（極限真空度優(yōu)于1×10?? Pa）和精確的膜厚控制能力。此外，設(shè)備還配備有觀察窗、旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)和多種蒸發(fā)源選擇，能夠滿足多樣化的實(shí)驗(yàn)需求。

噴金儀 746     

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SSG-50M為了使電子顯微鏡中的樣品能夠成像，它們需要有導(dǎo)電性，通過在樣品上形成導(dǎo)電層的鍍膜，用來抑制電荷，減少熱損傷，并提高在SEM中定位檢查所需的二次電子信號(hào)。

HIPEX 80熱等靜壓機(jī) 5253     

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熱等靜壓(Hot Isostatic Pressing, HIP)是一種以氮?dú)饣蛄繗獾榷栊詺怏w作為 溫度、壓力傳介質(zhì)，將制件放置于密閉容器之中，在高溫(900?2000C)和高壓(100? 200MPa)的共同作用下，向制件施加各向同等的高溫和壓力，是高性能零件制備或處理 中不可或缺的一項(xiàng)技術(shù)。

ORZ材料低成本深度除油技術(shù)及裝備 3926     

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ORZ材料低成本深度除油技術(shù)及裝備采用自主研發(fā)的新型ORZ吸附材料對廢水（或 料液）進(jìn)行除油處理，ORZ材料具有吸附容量大（3.2g/g）、容易再生、成本低的特點(diǎn), 除油效果顯著。技術(shù)原理是當(dāng)含油廢水/溶液流經(jīng)ORZ材料時(shí)，利用ORZ材料與油類有機(jī)物之間的范德華力和自身具備的分子篩選功能，將溶液中的大分子有機(jī)物聚集到吸附材料上，實(shí)現(xiàn)油和水相的分離。吸附飽和的ORZ材料通過溶劑解吸再生后返回吸附除油系統(tǒng)，反復(fù)循環(huán)利用，降低除油成本，且無二次污染產(chǎn)生。