Leica EM SCD500高真空濺射鍍膜儀是一款無油高真空系統(tǒng)，專為FE-SEM觀察前的樣品鍍膜、TEM/EDX噴涂以及多層膜樣品制備設計。它具備多種功能，包括金屬濺射鍍膜、輝光放電、蝕刻（樣品清潔）、碳絲蒸發(fā)鍍膜、碳棒蒸發(fā)鍍膜、金屬熱阻蒸發(fā)鍍膜，還可選配液氮冷臺（適配EM VCT100）。設備配備金屬靶檔板，適用于特殊濺射靶材的預濺射，確保鍍膜純度?？蛇x配石英膜厚監(jiān)控器，實現(xiàn)程序化控制膜厚并反饋鍍膜儀。樣品室尺寸有標配?106mm和選配?205mm（可容納wafer 152mm/6"圓形或127mm/5"方形）兩種規(guī)格。操作簡單，帶有LED指示，機身印有操作說明。
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湖南 - 長沙
2025年08月07日 ~ 09日
