電子級高純鈦濺射靶材說明介紹

簡介 超大規(guī)模的集成電路，需要達(dá)到4N(99.995%)- 5N(99.999%)級純度的鈦，基于高純鈦晶體原材料，我公司可生產(chǎn)制備4N5以上高純鈦靶材。在半導(dǎo)體集成電路、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面，制備濺射膜材料是一項(xiàng)基礎(chǔ)而重要的環(huán)節(jié)。而靶材作為高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，是承擔(dān)整個(gè)濺射工藝成功與否的關(guān)鍵。高純鈦因其較高的純度，同時(shí)相對于貴金屬而言較低的成本等被視為一種極具價(jià)值的鍍膜材料。

上一個(gè)： 低氧高純鈦錠 下一個(gè)： PBT母料