權(quán)利要求書: 1.一種低溫等離子廢氣處理裝置,其特征在于,包括:箱體(1)、儲料倉(2)、進(jìn)氣管(3)、出氣管(4)、風(fēng)機(jī)(5)和兩電場部(6),所述箱體(1)呈中空矩形,所述儲料倉(2)設(shè)置在所述箱體(1)下端,且所述儲料倉(2)與所述箱體(1)連通;
所述進(jìn)氣管(3)和所述出氣管(4)分別設(shè)置在所述箱體(1)的兩側(cè)上端,所述風(fēng)機(jī)(5)與所述出氣管(4)連通;
所述箱體(1)內(nèi)設(shè)置有一隔板(10),所述隔板(10)沿所述箱體(1)長度方向延伸至所述儲料倉(2)底壁;兩所述電場部(6)分別設(shè)置在所述隔板(10)的兩側(cè),且所述電場部(6)的進(jìn)氣口設(shè)置在下方;其中
含塵廢氣進(jìn)入所述箱體(1)內(nèi)后,廢氣依次穿過兩電場部(6)被電離后排出箱體(1)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種低溫等離子廢氣處理裝置,其特征在于,所述隔板(10)將所述箱體(1)分成兩個容納倉,一個容納倉與進(jìn)氣管(3)連通,另一個容納倉與出氣管(4)連通;
所述隔板(10)兩側(cè)壁分別與所述箱體(1)內(nèi)側(cè)壁固定連接,所述隔板(10)上端壁與所述箱體(1)內(nèi)頂壁設(shè)有間隙;
一個電場部(6)設(shè)置在所述容納倉的側(cè)壁,且該電場部(6)側(cè)壁與箱體(1)內(nèi)頂壁固定連接;
另一個電場部(6)設(shè)置在箱體(1)內(nèi)靠近出氣管(4)的側(cè)壁,該電場部(6)一側(cè)壁上端與箱體(1)內(nèi)頂壁固定連接,且該電場部(6)側(cè)壁與所述隔板(10)側(cè)壁設(shè)有間隙。
3.如權(quán)利要求2所述的一種低溫等離子廢氣處理裝置,其特征在于,所述電場部(6)包括:固定板(61)、兩定位板(62)、若干通氣管(63)和若干電極(64),所述固定板(61)固定在兩所述定位板(62)一側(cè),且所述固定板(61)上端垂直固定在所述箱體(1)內(nèi)頂壁;
兩定位板(62)平行設(shè)置,若干所述通氣管(63)矩陣式設(shè)置在兩所述定位板(62)之間,且所述定位板(62)上開設(shè)有與通氣管(63)適配的通氣孔;
所述通氣管(63)豎直設(shè)置,且一個電極(64)對應(yīng)設(shè)置在一個通氣管(63)內(nèi);其中廢氣流入通氣管(63)內(nèi)時,所述電極(64)通電能夠電解廢氣。
4.如權(quán)利要求3所述的一種低溫等離子廢氣處理裝置,其特征在于,所述儲料倉(2)包括:卸料組件(21)和儲料斗(22),所述儲料斗(22)呈方斗狀,且所述儲料斗(22)上端與
聲明:
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我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)