權(quán)利要求書: 1.一種熱處理用真空回火爐,包括外殼(1),其特征在于,所述外殼(1)的下端設(shè)有底座(2),外殼(1)的前端設(shè)有安全門(3),所述外殼(1)的下端設(shè)有電機一(4),所述電機一(4)通過連接桿(5)與外殼(1)連接,所述連接桿(5)安裝在電機一(4)的左右兩端,所述外殼(1)的上端設(shè)有電機二(6),所述電機二(6)的右側(cè)位于外殼(1)上端設(shè)有進氣管(7);
所述外殼(1)的內(nèi)部左右側(cè)壁和底端均設(shè)有加熱器(100),所述外殼(1)內(nèi)部底端上方設(shè)有放置盤(8),所述放置盤(8)的下端設(shè)有支撐盤(9),所述支撐盤(9)與電機一(4)的電機軸連接,所述支撐盤(9)的下方設(shè)有支撐桿(10),所述支撐桿(10)的下端通過滑槽(12)與滑座(11)滑動連接,所述滑座(11)安裝在外殼(1)內(nèi)部底端,且滑座(11)位于放置盤(8)的正下方,所述滑槽(12)位于滑座(11)上,所述放置盤(8)的上方設(shè)有環(huán)形水管(13),所述環(huán)形水管(13)上設(shè)有若干噴頭(14),所述噴頭(14)均勻的分布在環(huán)形水管(13)的下端,所述環(huán)形水管(13)的上端設(shè)有風(fēng)扇(15),所述環(huán)形水管(13)與風(fēng)扇(15)固定連接,所述風(fēng)扇(15)與電機二(6)的電機軸連接,所述外殼(1)內(nèi)部頂端左側(cè)設(shè)有真空傳感器(16),所述真空傳感器(16)的右側(cè)設(shè)有溫度傳感器(17),所述溫度傳感器(17)的右側(cè)設(shè)有溫控器(18);
所述底座(2)上設(shè)有安裝槽(200),所述安裝槽(200)的內(nèi)部設(shè)有支撐裝置,所述支撐裝置包括螺紋桿(20),所述螺紋桿(20)的上端通過軸承與底座(2)連接,所述螺紋桿(20)的下端設(shè)有支撐座(22),所述支撐座(22)的上端設(shè)有螺紋管(19),所述螺紋管(19)通過螺紋與螺紋桿(20)連接,所述螺紋管(19)左右兩端設(shè)有滑塊(29),所述螺紋管(19)通過滑塊(29)與底座(2)滑動連接,所述螺紋桿(20)上套設(shè)有齒輪一(21),所述齒輪一(21)的右端設(shè)有齒輪二(23),所述齒輪一(21)與齒輪二(23)嚙合連接,且齒輪二(23)位于底座(2)的內(nèi)部,所述齒輪二(23)上設(shè)有轉(zhuǎn)動桿(24),所述齒輪二(23)的上方位于轉(zhuǎn)動桿(24)上設(shè)有斜齒輪一(25),且斜齒輪一(25)的右端設(shè)有斜齒輪二(26),所述斜齒輪一(25)
聲明:
“熱處理用真空回火爐” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)