權(quán)利要求書： 1.一種還原爐排氣裝置，其特征在于，包括豎立的排氣管、保溫層、加熱器、進(jìn)氣管、出氣管和回水槽，保溫層包裹在排氣管的下管段外壁，加熱器設(shè)置在排氣管的上管段外壁，進(jìn)氣管伸進(jìn)保溫層與下管段連通，出氣管為弧形管，一端的管口與排氣管的上端口相連通，另一端為自由端且管口朝下，回水槽位于排氣管下方，通過管道與排氣管的下端口相連，在管道上設(shè)有回水閥。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的還原爐排氣裝置，其特征在于，排氣管為不銹鋼管，長度為5? 15m，管內(nèi)徑為5?20cm。 3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的還原爐排氣裝置，其特征在于，排氣管的上管段長度為0.5? 2m，下管段長度為4.5?13m。 4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的還原爐排氣裝置，其特征在于，保溫層為石棉層，加熱器為電阻絲加熱器。 5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的還原爐排氣裝置，其特征在于，進(jìn)氣管與排氣管形成一個(gè)銳角和一個(gè)鈍角，其中上管段位于銳角的一條邊上。 6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的還原爐排氣裝置，其特征在于，所述銳角為10°?30°。 7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的還原爐排氣裝置，其特征在于，出氣管為U形管。 說明書： 一種還原爐排氣裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型涉及一種還原爐排氣裝置。背景技術(shù)[0002] 在粉末冶金行業(yè)，還原爐作為常用的設(shè)備之一，其主要結(jié)構(gòu)包括爐體、加熱模塊、自動(dòng)化模塊、供氣模塊、回氣模塊、凈化模塊、排氣裝置等。物料在爐內(nèi)經(jīng)還原產(chǎn)生的廢氣通過回氣模塊進(jìn)入凈化模塊，經(jīng)凈化模塊凈化吸收后再由供氣模塊重新進(jìn)入爐內(nèi)循環(huán)利用，從而避免資源的浪費(fèi)和能量的損失。但是，凈化設(shè)備不能吸收的廢氣也同樣會(huì)循環(huán)進(jìn)入系統(tǒng)，從而對產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生影響。因此，對于這部分廢氣需要經(jīng)排氣裝置排出系統(tǒng)。但是現(xiàn)有的排氣系統(tǒng)存在一定的弊端，由于進(jìn)入排氣裝置的氣體中含有具有一定熱量的水蒸汽，因此當(dāng)與外界溫差較大時(shí)，會(huì)使水蒸汽在出氣口內(nèi)壁液化?凝結(jié)，造成水的回流及出氣口堵塞。發(fā)明內(nèi)容[0003] 為了解決上述水蒸汽在出氣口內(nèi)壁液化?凝結(jié)、回流進(jìn)而堵塞出氣口的問題，本實(shí)用新型提出一種還原爐排氣裝置。[0004] 本實(shí)用新型所述還原爐排氣裝置，包括豎立的排氣管、保溫層、加熱器、進(jìn)氣管、出氣管和回水槽，保溫層包裹在排氣管的下管段外壁，加熱器設(shè)置在排氣管的上管段外壁，進(jìn)