權(quán)利要求書: 1.一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),包括回轉(zhuǎn)窯本體,其特征在于,所述回轉(zhuǎn)窯本體內(nèi)設(shè)有與所述回轉(zhuǎn)窯本體軸線平行的燃?xì)夤艿?;所述燃?xì)夤艿涝O(shè)于所述回轉(zhuǎn)窯本體的軸線下方;
所述燃?xì)夤艿腊ㄅc所述回轉(zhuǎn)窯本體長(zhǎng)度相匹配的第一管道以及延伸出所述回轉(zhuǎn)窯本體的第二管道;
所述第二管道上設(shè)有燃?xì)忾y門;
所述第一管道上設(shè)有間距相同的若干個(gè)噴火嘴單元;所述噴火嘴單元之間的間距為5m±0.2m;
所述噴火嘴單元均包括兩個(gè)噴火嘴,兩個(gè)所述噴火嘴之間的噴火方向呈60°±2°夾角設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),其特征在于,所述第一管道通過支撐架設(shè)置在所述回轉(zhuǎn)窯本體內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),其特征在于,所述燃?xì)夤艿纼?nèi)通入煤氣或天然氣。
說明書: 一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型涉及回轉(zhuǎn)窯應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),主要用于回轉(zhuǎn)窯內(nèi)部耐高溫澆注料重新砌筑后的烘窯。背景技術(shù)[0002] 目前回轉(zhuǎn)窯形式的窯體,在內(nèi)部耐火材料(澆注料)局部或全部更換后,需要進(jìn)行逐步升溫脫水,達(dá)到固化溫度后,才能滿足耐高溫的需要。在脫水烘窯階段,熱量不能集中在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)某一個(gè)位置,熱量過度集中,易造成受熱不均勻后導(dǎo)致局部澆注料的脫落。傳統(tǒng)回轉(zhuǎn)窯烘窯方式一般采用主火嘴燃燒方式(參見圖3),從常溫開始,逐漸升溫至1000度左右;此種方式存在以下弊端:1、主火嘴的作用主要是給回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的物料加熱,燃料氣體通入量大,火焰長(zhǎng)度與形狀無法有效控制,且火焰容易與窯內(nèi)壁的耐火材料接觸,造成耐火材料直接脫落,導(dǎo)致無法正常生產(chǎn);2、主火嘴的火焰長(zhǎng)度有限,一般不超過5米,因此對(duì)回轉(zhuǎn)窯尾部提供熱量有限,不利于回轉(zhuǎn)窯中部與尾部的加熱(回轉(zhuǎn)窯長(zhǎng)度一般在30米~60米);3、由于火焰呈水平方向噴射,回轉(zhuǎn)窯靠近火嘴下方與后側(cè)的耐火材料無法升溫與脫水,存在烘窯的死角。[0003] 鑒于上述情況,需要設(shè)計(jì)一種新型的烘窯系統(tǒng),能夠杜絕火焰與回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的耐高溫澆注料接觸,同時(shí)使回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的熱量覆蓋整個(gè)回轉(zhuǎn)窯,解決熱量不平衡問題。實(shí)用新型內(nèi)容
[0004] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,本實(shí)用新型目的是提供一種回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng),能夠杜絕火焰與回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的耐高溫澆注料接觸,同時(shí)使回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的熱量覆蓋整個(gè)回轉(zhuǎn)窯,解決熱量不
聲明:
“回轉(zhuǎn)窯烘窯系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)