權(quán)利要求書: 1.一種混凝土地面抹平裝置,其特征在于,包括:機體(10);至少兩個抹盤機構(gòu)(20),所述抹盤機構(gòu)(20)設(shè)置在所述機體(10)的下方,其中,所述抹盤機構(gòu)(20)可轉(zhuǎn)動地設(shè)置,以在所述抹盤機構(gòu)(20)的抹平平面與混凝土地面接觸時,驅(qū)動所述機體(10)在所述混凝土地面移動,同時通過所述抹平平面對混凝土地面進(jìn)行打磨;導(dǎo)向機構(gòu)(30),所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)環(huán)繞所述機體(10)的外側(cè)設(shè)置并可繞機體(10)進(jìn)行轉(zhuǎn)動,所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)的至少一部分在所述混凝土地面的正投影超出所述機體(10)和所述抹盤機構(gòu)(20)在所述混凝土地面的正投影,以使所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)優(yōu)先于所述機體(10)和所述抹盤機構(gòu)(20)接觸障礙物(1),以實現(xiàn)所述混凝土地面抹平裝置的導(dǎo)向;支撐件(40),所述支撐件(40)設(shè)置在所述機體(10)上,所述支撐件(40)位于所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)的內(nèi)側(cè)并與所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)接觸,以通過所述支撐件(40)支撐所述導(dǎo)向機構(gòu)(30),以抵消所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)與所述障礙物(1)接觸時所受到的部分?jǐn)D壓力;所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)包括:同步帶(32),所述同步帶(32)環(huán)繞所述機體(10)設(shè)置,所述同步帶(32)與所述機體(10)連接;凸起塊(31),所述凸起塊(31)設(shè)置在所述同步帶(32)靠近所述障礙物的一側(cè),所述凸起塊(31)為多個,多個所述凸起塊(31)沿所述同步帶(32)的延伸方向相間隔地設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混凝土地面抹平裝置,其特征在于,所述支撐件(40)上設(shè)置有限位槽,所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)至少部分安裝在所述限位槽內(nèi),以使所述導(dǎo)向機構(gòu)(30)沿所述限位槽的延伸方向移動。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的混凝土地面抹平裝置,其特征在于,多個所述抹盤機構(gòu)(20)包括第一抹盤機構(gòu)(21)、第二抹盤機構(gòu)(22)和第三抹盤機構(gòu)(23),所述第一抹盤機構(gòu)(21)和所述第三抹盤機構(gòu)(23)設(shè)置在所述第二抹盤機構(gòu)(22)的兩側(cè);其中,所述第一抹盤機構(gòu)(21)的第一抹平平面與水平面之間具有第一預(yù)定夾角,所述第三抹盤機構(gòu)(23)的第二抹平平面與水平面之間具有第二預(yù)定夾角,所述第一抹平平面與所述第二抹平平面之間具有第三預(yù)定夾角。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的混凝土地面抹平裝置,其特征在于,所述混凝土地面抹平裝置還包括:兩組第
聲明:
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我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)