權(quán)利要求書: 1.一種旋轉(zhuǎn)式電解拋光清洗設(shè)備,其特征在于,包括:電解拋光設(shè)備及圍合在電解拋光設(shè)備外側(cè)的清洗設(shè)備;所述電解拋光設(shè)備包括:驅(qū)動機構(gòu),被驅(qū)動機構(gòu)所驅(qū)動并作共軸同步轉(zhuǎn)動并呈平行布置的上圓盤(51)與下圓盤(52),下圓盤(52)的外側(cè)環(huán)布設(shè)置圓環(huán)柱(113),所述圓環(huán)柱(113)的頂部形成有至少一個導(dǎo)引分離區(qū),若干垂直設(shè)置于上圓盤(51)與下圓盤(52)之間且與上圓盤(51)或下圓盤(52)相連的導(dǎo)引機構(gòu)(40),作共軸同步轉(zhuǎn)動的若干工件框(20)及電解棒,所述工件框(20)收容杯體(30)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式電解拋光清洗設(shè)備,其特征在于,所述工件框(20)和電解棒中的其中一個與所述導(dǎo)引機構(gòu)(40)滑動連接,且工件框(20)和電解棒中的另一個與所述上圓盤(51)或下圓盤(52)相連,所述上圓盤(51)與下圓盤(52)在共軸同步轉(zhuǎn)動過程中在所述導(dǎo)引分離區(qū)實現(xiàn)電解棒與杯體(30)的內(nèi)部腔體之間的縱向分離。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式電解拋光清洗設(shè)備,其特征在于,所述清洗設(shè)備由環(huán)形首尾連接并通過隔板相互隔離的若干清洗槽組成,并在至少一個清洗槽中設(shè)置超聲波發(fā)生器(77)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的旋轉(zhuǎn)式電解拋光清洗設(shè)備,其特征在于,還包括:環(huán)布于清洗設(shè)備徑向外側(cè)的軌道(952)以及沿軌道(952)轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)運機構(gòu)(95),以通過所述轉(zhuǎn)運機構(gòu)(95)將電解拋光設(shè)備處理完畢的杯體轉(zhuǎn)運至清洗設(shè)備中執(zhí)行清洗處理;所述轉(zhuǎn)運機構(gòu)(95)包括:水平設(shè)置的懸臂(951),設(shè)置于懸臂(951)末端的夾持機構(gòu),用于整體驅(qū)動懸臂(951)執(zhí)行水平轉(zhuǎn)動和/或垂直升降的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)(953),沿軌道(952)運動并承載旋轉(zhuǎn)機構(gòu)(953)的驅(qū)動機構(gòu)(954);所述夾持機構(gòu)包括氣缸(9513)及被氣缸(9513)驅(qū)動的氣動手指(9514)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式電解拋光清洗設(shè)備,其特征在于,所述導(dǎo)引機構(gòu)(40)包括:垂直軌道(401),與垂直軌道(401)滑動連接的滑動塊(21),設(shè)置于滑動塊(21)下方的滾動機構(gòu)(24),工件框(20)設(shè)置于滑動塊(21)的徑向外側(cè),所述下圓盤(52)與圓環(huán)柱(113)相互分離。6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或者5所述的旋轉(zhuǎn)式電解拋光清洗設(shè)備,其特征在于,若干導(dǎo)引機構(gòu)(40)以環(huán)形等間距方式垂直布置于
聲明:
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