權(quán)利要求書(shū)： 1.一種光催化氧化設(shè)備，其特征在于：包括設(shè)備本體（1）以及設(shè)于其內(nèi)的靜電除霧模塊（2）和光催化氧化模塊（3），其中：設(shè)備本體（1）內(nèi)設(shè)有從進(jìn)氣口（16）至出氣口（17）之間依次設(shè)置的緩沖室Ⅰ（11）、靜電除霧模塊（2）、緩沖室Ⅱ（12）、光催化氧化模塊（3）和緩沖室Ⅲ（13）；所述靜電除霧模塊（2），兩端分別通過(guò)隔板Ⅰ（14）和隔板Ⅱ（15）與設(shè)備本體（1）固定連接，從而在隔板Ⅰ（14）和設(shè)備本體的進(jìn)氣口之間形成緩沖室Ⅰ（11），在隔板Ⅱ（15）和光催化氧化模塊（3）之間形成緩沖室Ⅱ（12）；所述隔板Ⅰ（14）靠近設(shè)備本體（1）底部位置設(shè)有靜電除霧進(jìn)氣口（28），所述隔板Ⅱ（15）靠近設(shè)備本體（1）頂部位置設(shè)有靜電除霧出氣口（29）。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光催化氧化設(shè)備，其特征在于：所述靜電除霧模塊（2）包括至少一組陰極線（21）和陽(yáng)極管（22）組成的電極單元，若干所述電極單元通過(guò)安裝支架（25）固定在隔板Ⅰ（14）和隔板Ⅱ（15）之間，并且在所述安裝支架（25）底部與設(shè)備本體（1）之間圍成下氣室（23），在若干所述電極單元頂部與設(shè)備本體（1）頂部之間圍成上氣室（26）。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光催化氧化設(shè)備，其特征在于：設(shè)備本體（1）位于下氣室（23）的底部位置還設(shè)有廢液收集斗（24），廢液收集斗（24）通過(guò)連接閥門(mén)（27）排污。4.根據(jù)權(quán)利要求1?3任意一項(xiàng)所述的光催化氧化設(shè)備，其特征在于：所述光催化氧化模塊（3）具有若干層交替布置的高能紫外燈組（31）和納米催化網(wǎng)（32），其中所述高能紫外燈組（31）分別由波長(zhǎng)185nm、254nm和365nm的紫外燈管一種或者幾種組成。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光催化氧化設(shè)備，其特征在于：每一組所述高能紫外燈組（31）包括若干并聯(lián)連接在設(shè)備本體（1）內(nèi)部的高能紫外燈。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光催化氧化設(shè)備，其特征在于：所述光催化氧化模塊（3）位于進(jìn)氣端以及出氣端還分別設(shè)有一塊均流板（33），每一塊所述均流板（33）上設(shè)有若干通孔。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光催化氧化設(shè)備，其特征在于：每一塊所述均流板（33）的上均勻開(kāi)孔，開(kāi)孔的表面積占均流板（33）表面積的12 23%。~ 說(shuō)明書(shū)： 一種光催化氧化設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域[000