權(quán)利要求 1.一種均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，包括回轉(zhuǎn)窯本體(16)，其特征在于，還包括均勻下料裝置(20)，所述均勻下料裝置(20)包括機(jī)殼(8)，所述機(jī)殼(8)上對應(yīng)回轉(zhuǎn)窯本體(16)的焙料出口設(shè)置有聚料斗(2)，所述聚料斗(2)的底部設(shè)有出料口(22)，所述聚料斗(2)用于聚集通過回轉(zhuǎn)窯本體(16)的焙料出口排出的焙料;所述機(jī)殼(8)的內(nèi)部滑動安裝有下料斗(11)，所述下料斗(11)位于任一滑動位置時，所述出料口(22)始終與下料斗(11)上下對應(yīng)布置;所述機(jī)殼(8)上位于下料斗(11)的一側(cè)設(shè)置有驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動下料斗(11)往復(fù)運動。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述驅(qū)動裝置包括翅片輪(12)、換向輥(3)、連接桿(6); 所述翅片輪(12)轉(zhuǎn)動安裝在聚料斗(2)與下料斗(11)之間，所述翅片輪(12)上環(huán)形陣列布置有若干個翅片(121)，所述出料口(22)位于翅片輪(12)側(cè)部的上方，所述出料口(22)正下方的出料路徑與翅片(121)的旋轉(zhuǎn)路徑的豎直切線重合; 所述換向輥(3)轉(zhuǎn)動安裝在機(jī)殼(8)上，所述換向輥(3)的外側(cè)壁上設(shè)置有環(huán)繞換向輥(3)周向布置的第一正弦滑槽(31)，所述換向輥(3)的一端與翅片輪(12)傳動連接; 所述連接桿(6)滑動安裝在機(jī)殼(8)上，所述連接桿(6)一端與下料斗(11)連接，所述連接桿(6)的另一端設(shè)有第一滑塊(10)，所述第一滑塊(10)滑動設(shè)置在第一正弦滑槽(31)的內(nèi)部。 3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，所述第一正弦滑槽(31)的波峰位于換向輥(3)的左側(cè)部，所述第一正弦滑槽(31)的波谷位于換向輥(3)的右側(cè)部，所述第一正弦滑槽(31)的波峰和波谷在換向輥(3)上相對布置。 4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的均勻下料的回轉(zhuǎn)窯，其特征在于，還包括位于出料口(22)與下料斗(11)之間的下料通道(9)，所述下料通道(9)的頂部與出料口(22)接通，所述下料通道(9)的底部對應(yīng)下料斗(11)設(shè)置，所述翅片輪(12)上一側(cè)的翅片(121)位于下料通道(9)內(nèi)，所述下料通道(9)內(nèi)部預(yù)留有供翅片輪(12)與翅片(121)旋轉(zhuǎn)的空間。 5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的均勻下料的回