權(quán)利要求 1.尾氣等離子處理吸收設(shè)備，包括依次連接的等離子高溫反應(yīng)裝置（1）、冷卻降溫裝置（2）和氮氧化物吸附裝置（3a），其特征在于：所述冷卻降溫裝置（2）包括外殼（21）和在所述外殼（21）內(nèi)豎直設(shè)置的若干通氣列管（22），所述通氣列管（22）的內(nèi)外側(cè)互不連通，所述通氣列管（22）的上口連通所述等離子高溫反應(yīng)裝置（1）的內(nèi)腔，所述通氣列管（22）的下口連通一個(gè)能從下部打開的灰塵清理腔（23），所述灰塵清理腔（23）的側(cè)壁連通所述氮氧化物吸附裝置（3a）的下部進(jìn)口，所述外殼（21）上設(shè)有進(jìn)水口（211）和出水口（212），所述進(jìn)水口（211）和所述出水口（212）之間連接有冷卻水循環(huán)裝置（4）。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的尾氣等離子處理吸收設(shè)備，其特征在于：所述等離子高溫反應(yīng)裝置（1）的頂部設(shè)有多個(gè)進(jìn)氣管口（11）。 3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的尾氣等離子處理吸收設(shè)備，其特征在于：所述等離子高溫反應(yīng)裝置（1）的側(cè)壁具有隔熱層（12）。 4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的尾氣等離子處理吸收設(shè)備，其特征在于：所述灰塵清理腔（23）的出口通過一個(gè)三通切換閥（5）同時(shí)連接兩個(gè)氮氧化物吸附裝置（3a、3b）。 5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的尾氣等離子處理吸收設(shè)備，其特征在于：兩個(gè)所述氮氧化物吸附裝置（3a、3b）的上出口匯于同一個(gè)排氣口，所述排氣口上設(shè)置有氣體檢測(cè)裝置（6）。 6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的尾氣等離子處理吸收設(shè)備，其特征在于：所述氮氧化物吸附裝置（3a）內(nèi)設(shè)有濾網(wǎng)（31），所述濾網(wǎng)（31）將所述氮氧化物吸附裝置（3a）的內(nèi)腔分隔為下部的緩沖腔（32）和上部的填料腔，所述填料腔內(nèi)設(shè)置有吸附填料（33）。 說明書 尾氣等離子處理吸收設(shè)備 技術(shù)領(lǐng)域 本實(shí)用新型涉及尾氣處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種尾氣等離子處理吸收設(shè)備。 背景技術(shù) 半導(dǎo)體、太陽能、液晶面板、LED等行業(yè)工廠在生產(chǎn)制造過程中會(huì)使用到很多種類的電子氣體，這些氣體中大多都是有毒有害的危險(xiǎn)氣體。這些有毒有害的氣體在生產(chǎn)工藝過程中有些會(huì)被利用到，還有一些殘余的氣體需要排放。因這些氣體都是高危險(xiǎn)氣體，有些具有腐蝕性，有些具有易燃易爆性等，故需要在車間內(nèi)靠近主設(shè)備的地方做及時(shí)處理，以最大限度地降低生產(chǎn)安全風(fēng)險(xiǎn)。 現(xiàn)在常見的