本發(fā)明涉及一種旋轉(zhuǎn)硅鎂合金靶材,其純度大于99.9%,鎂含量分別為30wt%、40wt%、50wt%,硅余量。本發(fā)明還公開一種制備旋轉(zhuǎn)硅鎂合金靶材的方法,工藝如下:預(yù)處理:對不銹鋼背管進(jìn)行預(yù)處理,其中包括清洗,噴砂粗化;噴涂粘結(jié)層:即利用電弧噴涂,在不銹鋼背管噴涂一層0.2-0.5mm厚的鎳鋁合金涂層,所述涂層起連接不銹鋼背管和后續(xù)噴涂的靶材材料作用;等離子噴涂沉積硅鎂涂層:利用等離子噴涂設(shè)備將配置好的硅鎂粉熔射沉積在不銹鋼背管上面形成硅鎂涂層。本發(fā)明的靶材安全性能高,而且均勻性好。
聲明:
“旋轉(zhuǎn)硅鎂合金靶材及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)