本實用新型公開了一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，屬于高純鋁真空冶煉技術(shù)領(lǐng)域。該設(shè)備包括真空中頻熔煉爐、石墨坩堝、出鋁溜槽、旋轉(zhuǎn)溜槽和固定溜槽；所述真空中頻熔煉爐的筒狀爐體內(nèi)放置石墨坩堝，石墨坩堝的上端設(shè)有坩堝上沿，坩堝上沿上開設(shè)豎直方向貫通的缺口形成流液通道，流液通道依次連接出鋁溜槽、真空擋板閥、旋轉(zhuǎn)溜槽和固定溜槽；鋁熔體澆注時，真空中頻熔煉爐爐體傾轉(zhuǎn)，石墨坩堝中的鋁熔體經(jīng)流液通道流出，再經(jīng)澆注組件直至結(jié)晶器完成無落差落鑄。本實用新型通過真空爐配套無落差出鋁溜槽的結(jié)構(gòu)設(shè)計能夠控制熔煉及澆鑄過程熔體的穩(wěn)定狀態(tài)，避免熔體落差及擾動等造成氣渣卷入，最終實現(xiàn)低氣低渣的高品質(zhì)高純鋁產(chǎn)品制備。