本實(shí)用新型描述了用于涂覆可移動(dòng)基板(20)的沉積源(100、200、300、400)和沉積設(shè)備(500)。所述沉積源包括：源外殼(120)，通過可以在沉積期間移動(dòng)基板(20)經(jīng)過工藝腔室的敞開的前側(cè)的方式而固定到所述工藝腔室；氣體入口(130)，用于將工藝氣體引入到所述源外殼的涂覆處理區(qū)域(125)中；以及抽空出口(140)，用于將所述工藝氣體從所述源外殼的泵送區(qū)域去除。抽空分割單元(150)布置在所述涂覆處理區(qū)域(125)與所述泵送區(qū)域(126)之間，所述抽空分割單元具有至少一個(gè)開口或具有多個(gè)開口(152)，所述至少一個(gè)開口或多個(gè)開口界定從所述涂覆處理區(qū)域(125)到所述泵送區(qū)域(126)中的工藝氣流路徑(155)。