本實(shí)用新型涉及一種電路板蝕刻廢水的堿式氯化銅合成裝置, ?包括酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置、酸性蝕刻液凈化除雜罐、堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置、堿性蝕刻液凈化除雜罐、中和合成罐、抽濾槽、離心機(jī)和氣流烘干機(jī)組成；酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置與酸性蝕刻液凈化除雜罐串聯(lián)，堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置與堿性蝕刻液凈化除雜罐串聯(lián)，酸性蝕刻液凈化除雜罐和堿性蝕刻液凈化除雜罐分別于中和合成罐連接；所述的中和合成罐、抽濾槽、離心機(jī)和氣流烘干機(jī)依次串聯(lián)。本實(shí)用新型具所述的裝置工藝流程簡(jiǎn)單、主要利用蝕刻廢水本身的酸堿特性進(jìn)行中和合成，有效降低廢水中銅離子的回收成本。