本實用新型公開了一種等離子輔助化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其包括有化學(xué)氣相沉積真空室，該化學(xué)氣相沉積真空室通過法蘭連接有真空系統(tǒng)，所述化學(xué)氣相沉積真空室的兩側(cè)室壁各設(shè)有相對的能產(chǎn)生等離子體、且能通過調(diào)控磁鐵分布調(diào)控磁場以改變等離子體強(qiáng)度與分布的可調(diào)式磁控等離子源平板電極，該等離子源平板電極連接有中頻電源，所述化學(xué)氣相沉積真空室頂部設(shè)有二維工件轉(zhuǎn)臺。使用本實用新型等離子輔助化學(xué)氣相沉積設(shè)備進(jìn)行的表面改性工藝不涉及任何廢水的產(chǎn)生及排放，符合環(huán)保的生產(chǎn)原則。表面改性工藝可賦予樣品表面附加功能，如防指紋、防霧、防靜電等，提高產(chǎn)品的附加價值。