本申請?zhí)峁┮环N離子束清洗設(shè)備，包括：離子室，用于提供真空環(huán)境；陰極離子源，用于提供電子，與離子室連通，陽極裝置，設(shè)置于離子室內(nèi)，陽極裝置與陰極離子源構(gòu)成電場區(qū)域；治具組件，設(shè)置于離子室內(nèi)并位于電場區(qū)域中，用于承載工件，治具組件包括連接件、第一磁鐵和第二磁鐵，第一磁鐵和第二磁鐵相對設(shè)置且均套設(shè)于連接件，以形成磁場區(qū)域，工件套設(shè)于連接件并位于第一磁鐵和第二磁鐵之間，且設(shè)置于磁場區(qū)域內(nèi)，連接件與一外部電源的負極電連接，用于牽引電場區(qū)域內(nèi)的正離子至磁場區(qū)域內(nèi)的工件的表面，以清洗工件。該離子束清洗設(shè)備，代替?zhèn)鹘y(tǒng)的化學(xué)去膜層方案，避免化學(xué)廢液的產(chǎn)生及排放，降低廢水處理成本，節(jié)省成本，同時保護環(huán)境。