本發(fā)明公開了三甲硅烷基胺的制備方法及系統(tǒng),包括如下內容:將N2、H2、SiClxH4?x的混合氣體在電磁場作用下反應,0≤x≤2。本發(fā)明實現(xiàn)了氮氣與氫氣的非熱等離子體與氯硅烷的高效反應,在低溫低壓條件下成功制得三甲硅烷基胺,條件溫和,安全性高;且無固體副產(chǎn)物生產(chǎn),產(chǎn)物分離難度小,無需固廢處理,工藝簡單,可操作性強,有利于大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
聲明:
“三甲硅烷基胺的制備方法及系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)