本實用新型公開了一種金屬硅還原爐內(nèi)廢氣真空置換裝置，包括底座，所述底座上表面的左側(cè)設(shè)有還原爐，所述還原爐右側(cè)面的下部連通有抽氣管的一端，所述抽氣管的另一端與真空泵的抽氣口相連通，所述真空泵右側(cè)面的出氣口連通有出氣管的一端，所述出氣管的另一端與箱體相連通，所述箱體內(nèi)壁上固定連接有隔板，所述隔板的下方設(shè)有第一噴淋機(jī)構(gòu)，所述隔板的上方設(shè)有第二噴淋機(jī)構(gòu)，所述箱體的右側(cè)并位于底座的上表面固定連接有堿液供給箱，通過設(shè)有第一噴淋機(jī)構(gòu)、第二噴淋機(jī)構(gòu)和堿液供給箱的設(shè)置，可對產(chǎn)生的廢氣進(jìn)行兩次噴淋，使廢氣的處理效果更佳，避免由于對廢氣的處理不充分給環(huán)境造成了危害。