設(shè)備介紹

該系統(tǒng)是一個(gè)特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計(jì),特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究。爐底部裝有滑軌，可通過滑動(dòng)爐子可以實(shí)現(xiàn)物料的快速加熱和冷卻。該cvd高溫爐廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)中沉積薄膜材料，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料、二維材料等，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。

產(chǎn)品優(yōu)勢

可快速加熱和冷卻

爐底部裝有滑軌，可通過滑動(dòng)爐子可以實(shí)現(xiàn)物料的快速加熱和冷卻

30段高精度可編程溫控

控溫系統(tǒng)采用PID方式調(diào)節(jié)，30段高精度數(shù)字可編程溫度控制器

雙溫區(qū)獨(dú)立控溫

雙溫區(qū)獨(dú)立控溫，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成溫度梯度或較長的恒溫區(qū)域

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品名稱 1200℃雙管滑道式CVD系統(tǒng)

第一部分： 1200度滑道雙管雙溫區(qū)管式爐

產(chǎn)品型號 1200度滑道管式爐

爐管尺寸：

雙石英管

外管：OD 100 x ID 96 x 1400 mm

內(nèi)管：OD 80 x ID 75 x 1800 mm

(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制)

加熱區(qū) 220+220mm(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制)

加熱元件 電阻絲

升溫速率 0-10°C/min

熱電偶 N型

第二部分： 水冷系統(tǒng)

法蘭：

1.可選配水冷機(jī)

2.水冷，密封雙管的真空法蘭：允許反應(yīng)氣體通過兩管之間(10mm間隙)發(fā)生反應(yīng)，冷卻氣體直接通入內(nèi)管.

第三部分 真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)

1. 防腐數(shù)顯真空計(jì)

2.旋片泵,含擋板閥 KF25接口，波紋管和箱體

第四部分 混氣系統(tǒng)

質(zhì)量流量計(jì)

量程：

MFC 1: 0~10 sccm

MFC 2: 0~200 sccm

MFC 3: 0~10 slm

MFC 3: 0~10 slm