權(quán)利要求書(shū): 1.一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng),其特征在于,包括:
雷蒙磨本體和去水機(jī)構(gòu);
所述去水機(jī)構(gòu)包括套設(shè)在所述雷蒙磨本體上的螺旋管道,所述螺旋管道的底端的出口與所述雷蒙磨本體的進(jìn)料口對(duì)齊,所述螺旋管道的頂端設(shè)有進(jìn)料槽,所述螺旋管道上設(shè)有加熱組件和振動(dòng)組件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng),其特征在于,所述振動(dòng)組件包括多個(gè)振動(dòng)電機(jī)和多個(gè)連接結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng),其特征在于,所述連接結(jié)構(gòu)包括安裝在所述雷蒙磨本體側(cè)面的連接板,所述連接板的頂部通過(guò)彈簧與所述螺旋管道連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng),其特征在于,所述加熱組件包括安裝在所述螺旋管道底部的加熱板,所述加熱板的頂部設(shè)有導(dǎo)熱層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng),其特征在于,所述加熱板內(nèi)設(shè)有多個(gè)加熱管,所述加熱管與安裝在所述螺旋管道底部的連接頭連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng),其特征在于,所述導(dǎo)熱層頂部設(shè)有波紋面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng),其特征在于,所述螺旋管道的頂部均勻安裝有多個(gè)排風(fēng)管。
說(shuō)明書(shū): 一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型雷蒙磨技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng)。背景技術(shù)[0002] 雷蒙磨又稱雷蒙磨粉機(jī),它適用各種礦粉制備、煤粉制備,比如生料礦、石膏礦、煤炭等材料的細(xì)粉加工。由于雷蒙磨占地面積小,系統(tǒng)性強(qiáng),從原材料的粗加工到輸送到制粉及最后的包裝,可自成一個(gè)獨(dú)立的生產(chǎn)系統(tǒng),而且與其他磨粉設(shè)備相比,通篩率高達(dá)99%,同時(shí)雷蒙磨傳動(dòng)平穩(wěn),運(yùn)轉(zhuǎn)可靠、耐用性較強(qiáng),因此,粉料加工領(lǐng)域被廣泛應(yīng)用。雷蒙磨屬于干法磨粉設(shè)備,雷蒙磨的入料水分應(yīng)控制在6%以下。[0003] 現(xiàn)有的雷蒙磨設(shè)備并不具有物料去水功能,對(duì)于水分6?15%左右的物料在粉碎后,仍需使用烘干設(shè)備進(jìn)行烘干,無(wú)疑會(huì)增加生產(chǎn)成本。[0004] 因此,有必要提供一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng)解決上述技術(shù)問(wèn)題。實(shí)用新型內(nèi)容
[0005] 針對(duì)上述情況,為克服現(xiàn)有技術(shù)缺陷,本實(shí)用新型提供了一種雷蒙磨水份去除系統(tǒng)能夠無(wú)需再額外購(gòu)買和使用獨(dú)立的烘干設(shè)備,對(duì)物料進(jìn)行水分的去除,降低生產(chǎn)成本。[0006] 為實(shí)現(xiàn)上述
聲明:
“雷蒙磨水份去除系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)