權(quán)利要求書(shū): 1.一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,包括:基板,在基板的下邊沿上設(shè)置有電解液進(jìn)口,在基板的上邊沿右側(cè)正面上設(shè)置有氫氣出口,在基板的上邊沿左側(cè)反面上設(shè)置有氧氣出口,在基板上沖壓有若干個(gè)乳突,乳突所在處的基板的一側(cè)表面突起、另一側(cè)表面凹陷,其特征在于:基板中部區(qū)域的乳突的密度大于基板左側(cè)區(qū)域的乳突的密度,基板中部區(qū)域的乳突的密度大于基板右側(cè)區(qū)域的乳突的密度,在基板左側(cè)區(qū)域中設(shè)置有若干個(gè)單向突點(diǎn),單向突點(diǎn)所在處的基板的正面凹陷、反面突起,單向突點(diǎn)的突起高度小于基板上的各個(gè)乳突的突起高度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:每個(gè)區(qū)域中的各個(gè)乳突橫平豎直排列,每個(gè)區(qū)域中的每橫排和每豎列中的各個(gè)乳突均以一個(gè)在基板的正面形成突起、一個(gè)在基板的反面形成突起而依次交替間隔布置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板中部區(qū)域上的各個(gè)相鄰乳突之間的上下距離和左右距離均相等。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板左側(cè)區(qū)域上的各個(gè)相鄰乳突之間的上下距離和左右距離均相等。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板右側(cè)區(qū)域上的各個(gè)相鄰乳突之間的上下距離和左右距離均相等。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板中部區(qū)域的各個(gè)相鄰乳突之間的左右距離從中間向兩側(cè)逐漸擴(kuò)大。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板左側(cè)區(qū)域的各個(gè)相鄰乳突之間的左右距離從內(nèi)向外逐漸擴(kuò)大。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板右側(cè)區(qū)域的各個(gè)相鄰乳突之間的左右距離從內(nèi)向外逐漸擴(kuò)大。9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板中部區(qū)域的各個(gè)相鄰乳突之間的上下距離從下向上逐漸擴(kuò)大。10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板左側(cè)區(qū)域的各個(gè)相鄰乳突之間的上下距離從下向上逐漸擴(kuò)大。11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其特征在于:基板右側(cè)區(qū)域的各個(gè)相鄰乳突之間的上下距離從下向上逐漸擴(kuò)大。12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電解制氫用非均勻雙極式乳突板,其
聲明:
“電解制氫用非均勻雙極式乳突板” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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