權(quán)利要求書： 1.一種無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，包括電解池本體(1)，其特征在于：所述電解池本體(1)的側(cè)壁開設(shè)有電解液調(diào)節(jié)觀察室(4)，所述電解液調(diào)節(jié)觀察室(4)中安裝有電解液調(diào)節(jié)裝置和電解液控制裝置；所述電解液調(diào)節(jié)裝置包括與電解池本體(1)連通的儲(chǔ)液筒(5)，所述儲(chǔ)液筒(5)中設(shè)置有與儲(chǔ)液筒(5)滑動(dòng)連接的活塞(6)，所述活塞(6)遠(yuǎn)離電解池本體(1)的一端固定連接有穿過(guò)儲(chǔ)液筒(5)和電解液調(diào)節(jié)觀察室(4)沿伸至電解液調(diào)節(jié)觀察室(4)外的活塞軸(8)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解池本體(1)的內(nèi)底面積是儲(chǔ)液筒(5)活塞(6)前端面積的整數(shù)倍。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解池本體(1)的內(nèi)底面積是儲(chǔ)液筒(5)活塞(6)前端面積為的10倍。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解液控制裝置包括與活塞軸(8)固定連接的千分尺(9)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的無(wú)測(cè)量裝直可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解液調(diào)節(jié)觀察室(4)的側(cè)壁上設(shè)置有用于固定千分尺(9)的定位支架。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述儲(chǔ)液筒(5)采用PFA塑料制成。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述儲(chǔ)液筒(5)的筒身設(shè)置有刻度線，所述刻度線的分度值為10μm。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于：所述電解液調(diào)節(jié)觀察室(4)側(cè)壁上開設(shè)用于觀察電解液調(diào)節(jié)裝置的工作狀態(tài)的觀察窗(10)。9.一種無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池的電解液深度調(diào)節(jié)方法，應(yīng)用權(quán)利要求1所述的一種無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池，其特征在于，包括：S1、在電解池本體(1)的載物臺(tái)中放置待加工件，向電解池本體(1)中加入電解液(2)至代加工件表面；S2、轉(zhuǎn)動(dòng)千分尺(9)，調(diào)節(jié)電解池中電解液(2)的高度。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種無(wú)測(cè)量裝置可連續(xù)控制電解液深度的電解池的電解液深度調(diào)節(jié)方法，其特征在于：所述S2中千分尺(9)轉(zhuǎn)動(dòng)一圈，電解池本體(1)中的電解液(2)下