權(quán)利要求書: 1.一種硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置包括第一檢測(cè)單元和第二檢測(cè)單元,所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元結(jié)構(gòu)相同,分別用于檢測(cè)硅片的相互平行的兩個(gè)側(cè)邊;所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元均包括側(cè)邊檢測(cè)組件,所述側(cè)邊檢測(cè)組件包括第一點(diǎn)光源、第一光路限定元件和相機(jī),所述第一光路限定元件包括反光面和狹縫,所述反光面用于反射由所述第一點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將所述第一點(diǎn)光源發(fā)出的光反射到待檢測(cè)硅片的側(cè)邊,所述光被所述待檢測(cè)硅片的側(cè)邊反射并穿過所述狹縫進(jìn)入所述相機(jī)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述相機(jī)與所述第一光路限定元件共線設(shè)置,且所述相機(jī)的光軸與所述狹縫對(duì)應(yīng);所述第一點(diǎn)光源設(shè)置在所述反光面的正上方。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一光路限定元件還包括第一安裝座,所述第一安裝座呈直角三棱柱狀,所述反光面固定在所述第一安裝座的斜面上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述反光面包括第一反光面和第二反光面,所述第一反光面和所述第二反光面對(duì)稱固定在所述狹縫的兩側(cè)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一光路限定元件的內(nèi)腔為經(jīng)過黑化處理的內(nèi)腔,所述內(nèi)腔包括所述狹縫的內(nèi)壁和/或反光面的背面。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一檢測(cè)單元和所述第二檢測(cè)單元還均包括第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件,所述第一倒角檢測(cè)組件和第二倒角檢測(cè)組件結(jié)構(gòu)相同,且相對(duì)所述側(cè)邊檢測(cè)組件對(duì)稱設(shè)置;所述第一倒角檢測(cè)組件和所述第二倒角檢測(cè)組件均包括第二光路限定元件,所述第二光路限定元件包括第二安裝座、第三反光面、第四反光面和通道,所述通道設(shè)置在所述第二安裝座上,用于為所述待檢測(cè)硅片提供輸送通道,所述第三反光面和所述第四反光面分別固定設(shè)置在所述通道兩側(cè)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第一倒角檢測(cè)組件和所述第二倒角檢測(cè)組件還均包括第二點(diǎn)光源,所述第三反光面和所述第四反光面用于反射由所述第二點(diǎn)光源發(fā)出的光,并將所述光反射至所述待檢測(cè)硅片的倒角,所述光被所述待檢測(cè)硅片的倒角反射并穿過所述狹縫進(jìn)入所述相機(jī)。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置,其特征在于,所述第二安裝座呈直角三棱柱狀,所述
聲明:
“硅片側(cè)邊檢測(cè)裝置及硅片分選機(jī)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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