權(quán)利要求
1.一種掘進(jìn)機(jī)的噴霧降塵系統(tǒng),其特征在于,包括對稱設(shè)置在掘進(jìn)機(jī)切割臂左右兩側(cè)的負(fù)壓捕獲機(jī)構(gòu);且所述負(fù)壓捕獲機(jī)構(gòu)處于掘進(jìn)機(jī)切割臂遠(yuǎn)離切割頭的一端;所述負(fù)壓捕獲機(jī)構(gòu)包括吸塵外殼、高壓噴氣管、一級霧化模組及二級霧化模組;
所述吸塵外殼的頂部設(shè)置有向掘進(jìn)機(jī)切割頭斜上方延伸的集塵管道;所述高壓噴氣管的噴氣段從集塵管道的輸出口延伸至其內(nèi)部,并與集塵管道內(nèi)壁形成環(huán)形間隙,所述一級霧化模組集成于高壓噴氣管內(nèi)部,用于向高壓噴氣管內(nèi)注入超細(xì)霧滴以形成氣霧混合射流;
所述吸塵外殼形成有輸入口與集塵管道輸出口連通的降塵通道;所述降塵通道沿氣流流動(dòng)方向依次包括引導(dǎo)氣流進(jìn)入的引導(dǎo)段、引導(dǎo)氣流進(jìn)行離心力分級的圓弧導(dǎo)流段、以及承接離心分離產(chǎn)物的水平延伸段;所述吸塵外殼靠近切割頭的一側(cè)設(shè)有與吸塵外殼內(nèi)部連通的噴霧通道和排塵通道,其中,噴霧通道的入口端嵌入水平延伸段截面上部1/3高度范圍內(nèi);排塵通道入口端完全嵌入水平延伸段截面內(nèi);
所述二級霧化模組安裝于水平延伸段上方的隔離腔體內(nèi),并用于生成覆蓋噴霧通道與水平延伸段重合區(qū)域的廣角霧幕。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掘進(jìn)機(jī)的噴霧降塵系統(tǒng),其特征在于,所述引導(dǎo)段的入口端與集塵管道輸出口平滑過渡連接,且所述圓弧導(dǎo)流段的入口與引導(dǎo)段出口呈切線連接,所述圓弧導(dǎo)流段的入口與水平延伸段出口呈切線連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掘進(jìn)機(jī)的噴霧降塵系統(tǒng),其特征在于,所述高壓噴氣管的噴氣段沿氣流流動(dòng)方向的直徑不斷遞減形成漸縮結(jié)構(gòu),所述環(huán)形間隙沿氣流流動(dòng)方向的寬度不斷遞增形成漸擴(kuò)結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掘進(jìn)機(jī)的噴霧降塵系統(tǒng),其特征在于,所述噴氣段的外側(cè)均勻設(shè)置有傾斜葉片,且相鄰傾斜葉片之間形成螺旋通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掘進(jìn)機(jī)的噴霧降塵系統(tǒng),其特征在于,所述排塵通道的內(nèi)壁與水平延伸段的內(nèi)壁圓滑過渡,且排塵通道前側(cè)的噴霧通道底部通過鉸接座安裝有鉸接擋板,鉸接擋板與排塵通道出口之間保留可控間隙。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掘進(jìn)機(jī)的噴霧降塵系統(tǒng),其特征在于,所述降塵通道由設(shè)置在吸塵外殼內(nèi)的弧狀隔板與吸塵外殼的內(nèi)壁合圍構(gòu)成,所述弧狀隔板內(nèi)側(cè)形成所述隔離腔體,所述弧狀隔板中部的隔離腔體內(nèi)設(shè)置有高壓腔,且弧狀隔板對應(yīng)高壓腔處均勻設(shè)置有沖洗噴孔,所
聲明:
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我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)