本發(fā)明涉及一種高阻靶材制造方法，屬于電子材料與冶金技術(shù)領(lǐng)域。用于制備金屬膜電阻器所需的靶材。該方法包括原料配比、熔煉、制粉、熱壓成型和機(jī)加工過程。其優(yōu)點(diǎn)是：所制造的靶材晶粒尺寸細(xì)小、大小分布均勻、致密度高、外部無裂紋、內(nèi)部無孔隙，能夠有效提升金屬膜電阻器的質(zhì)量和薄膜沉積速率；本發(fā)明方法制造靶材成品率高，易于規(guī)模化生產(chǎn)。