硅粉表面刻蝕裝置,屬于等離子體應(yīng)用,目的在于縮短反應(yīng)時間,減化結(jié)構(gòu),提高硅粉純化效率。本發(fā)明反應(yīng)室上連接投料罐、出料罐和刻蝕氣體輸送系統(tǒng),反應(yīng)室內(nèi)平行裝有板式陽極和陰極,陰極與水冷裝置連接,水冷裝置通過密封波紋管與反應(yīng)室底部活動連接,水冷裝置底端通過振動轉(zhuǎn)換桿連接振動源;密封波紋管、振動轉(zhuǎn)換桿和振動源位于底架上,底架與反應(yīng)室底部固定連接并安裝于傾角調(diào)整支架上。本發(fā)明傾斜式的振動陰極使粉?？偺幱陉帢O表面附近緩慢下滑,振動使粉粒均布于陰極,打散硅粉團塊,該處離子能量最高刻蝕速率也高,下滑時間高達5至10分鐘,因此可一次處理滿足刻蝕要求;由于只采用氬氣進行物理刻蝕,非常有利于環(huán)保和操作人員健康。