本發(fā)明提供的高純鉭靶材制備方法,包括:將鉭粉混合均勻;將混合好的鉭粉裝入模具;冷壓成型;真空熱壓燒結(jié)。與傳統(tǒng)的通過高真空電子束熔煉爐獲得高純鉭錠、然后對鉭錠反復進行塑性變形和退火制得鉭靶坯的工藝相比,本發(fā)明通過粉末冶金的真空熱壓燒結(jié)技術(shù)直接由粉末制得鉭靶坯,消除鉭的“固有織構(gòu)帶”,獲得內(nèi)部織構(gòu)均勻的可用于半導體靶材制造用的鉭靶坯。