本發(fā)明公開了一種新型降低電子束熔煉技術(shù)能耗的裝置與方法，屬于冶金領(lǐng)域。所述裝置包括水冷熔煉坩堝，所述水冷熔煉坩堝內(nèi)壁底部由上到下依次設(shè)有5～40mm的碳化硅襯底，0～30mm石墨襯底。由于碳化硅以及石墨的熱導(dǎo)率遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于銅材質(zhì)的熱導(dǎo)率，所以熱量在通過襯底的時候熱流密度降低了，減少了大量能量的損耗，起到了節(jié)能作用。