本發(fā)明適用于冶金工程技術領域,提供了實驗室高爐模擬裝置,包括:原料準備區(qū)、氣氛加熱區(qū)和水淬區(qū);原料準備區(qū)、氣氛加熱區(qū)和水淬區(qū)的進氣處均設有氣體控制閥,氣體控制閥用于控制氣體流量和流速以及監(jiān)控氣體含量,同時用于控制爐內(nèi)一氧化碳氣氛曲線,并通過與溫度控制模塊配合的方式模擬在高爐中物料下落過程中的氣氛變化情況;推桿機構用于推動瓷舟。本發(fā)明三分區(qū)獨立使用,減少熱損失,防止一氧化碳外泄;能夠實時補充或稀釋爐內(nèi)氣氛,模擬在高爐中物料下落過程中的氣氛變化情況;能夠減少長期在高溫條件下運動件的使用,提高設備穩(wěn)定性;能夠延長點火器的使用壽命,確保尾氣完全燃燒處理,通過光控開關在尾氣處理機構出現(xiàn)異常后及時報警。
聲明:
“實驗室高爐模擬裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)