本發(fā)明屬于表面冶金范疇。它是利用稀薄氣體中的輝光放電及濺射現(xiàn)象,在工件周圍設(shè)置輔助源極;同時(shí)利用真空電弧放電現(xiàn)象,在容器壁上設(shè)置一個(gè)或多個(gè)陰極電弧靶,作為主金屬源。在對(duì)工件施加負(fù)偏壓作用下,工件升至高溫,依靠欲滲金屬離子的轟擊與擴(kuò)散,使工件表面獲得具有特殊物理、化學(xué)、機(jī)械性能的純金屬層、合金層、合金鍍層及化合物滲、鍍層。達(dá)到提高滲金屬速度及質(zhì)量,優(yōu)化工件表面性能的目的。