權(quán)利要求 1.礦山光面爆破方法，其特征在于，包括： 在所述礦山上開設(shè)多個(gè)爆破孔；其中，所述爆破孔的直徑D滿足如下條件：150mm≤D≤165mm；所述多個(gè)爆破孔呈臺(tái)階式分布，且臺(tái)階高度L滿足如下條件：15m≤L≤20m； 在所述爆破孔內(nèi)裝填爆破炸藥； 起爆所述爆破炸藥。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，所述在所述礦山上開設(shè)多個(gè)爆破孔包括： 在所述礦山上沿預(yù)設(shè)方向開設(shè)多個(gè)爆破孔；其中，所述預(yù)設(shè)方向與開設(shè)孔的部分表面之間的夾角G滿足如下關(guān)系：70°≤G≤80°。 3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，在所述在所述礦山上開設(shè)多個(gè)爆破孔之前，所述礦山光面爆破方法還包括： 沿預(yù)設(shè)路線，在所述礦山布置預(yù)設(shè)線； 所述在所述礦山上開設(shè)多個(gè)爆破孔包括： 在所述礦山上沿所述預(yù)設(shè)線的延伸方向開設(shè)多個(gè)爆破孔。 4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，相鄰兩個(gè)爆破孔之間的孔距A滿足如下條件：1.8m≤A≤2.5m。 5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，所述爆破孔包括主爆破孔和光面爆破孔，其中，所述主爆破孔與所述光面爆破孔之間的孔距B滿足如下條件：1.6m≤B≤2m。 6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，在所述爆破孔內(nèi)裝填爆破炸藥包括： 在所述主爆破孔和所述光面爆破孔內(nèi)裝填爆破炸藥； 所述起爆所述爆破炸藥包括： 起爆所述主爆破孔內(nèi)的爆破炸藥； 在預(yù)設(shè)時(shí)間段后，起爆所述光面爆破孔內(nèi)的爆破炸藥。 7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，所述在所述爆破孔內(nèi)裝填爆破炸藥包括： 將藥卷捆綁在導(dǎo)爆索上，以形成不耦合藥串； 將所述不耦合藥串固定在預(yù)設(shè)桿體上； 將所述預(yù)設(shè)桿體伸入所述爆破孔內(nèi)。 8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，在所述在所述爆破孔內(nèi)裝填爆破炸藥之后，所述礦山光面爆破方法還包括： 向所述爆破孔內(nèi)填充預(yù)設(shè)物。 9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的礦山光面爆破方法，其特征在于，位于所述爆破孔內(nèi)的所述預(yù)設(shè)物的高度C滿足如下條件：1.2m≤C≤1.8m。 10.根據(jù)