本實(shí)用新型涉及一種兩段蒸餾的真空爐，屬于真空冶金設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該真空爐包括爐體、坩堝Ⅰ、坩堝Ⅱ、溫控加熱構(gòu)件Ⅰ、溫控加熱構(gòu)件Ⅱ、冷凝室、導(dǎo)氣管、坩堝支架、支撐板Ⅰ、支撐板Ⅱ，熱電偶Ⅰ、熱電偶Ⅱ、熱電偶Ⅲ，坩堝支架固定設(shè)置在爐體底部，坩堝Ⅰ設(shè)置在坩堝支架上，支撐板Ⅰ固定設(shè)置在爐體內(nèi)壁，支撐板Ⅱ固定設(shè)置在爐體內(nèi)壁，冷凝室固定設(shè)置在支撐板Ⅰ上端、坩堝Ⅱ設(shè)置在支撐板Ⅰ下端且固定設(shè)置在支撐板Ⅱ上端，冷凝室與坩堝Ⅱ連通，坩堝Ⅰ和坩堝Ⅱ通過導(dǎo)氣管連通，溫控加熱構(gòu)件Ⅰ與坩堝Ⅰ連接，溫控加熱構(gòu)件Ⅱ與坩堝Ⅱ連接，熱電偶Ⅰ設(shè)置在坩堝Ⅰ內(nèi)，熱電偶Ⅱ設(shè)置在坩堝Ⅱ內(nèi)、熱電偶Ⅲ設(shè)置在導(dǎo)氣管內(nèi)。