本實(shí)用新型涉及冶金、化工設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種用于制取五氧化二釩的還原爐的底座，包括座體、二次加熱塊、電熱管，所述座體中部設(shè)有盆腔，所述二次加熱塊設(shè)置在所述盆腔中，所述二次加熱塊內(nèi)設(shè)有多個(gè)槽道，所述電熱管設(shè)置在所述槽道中，所述座體的一側(cè)壁設(shè)有與所述槽道相對(duì)應(yīng)的開(kāi)孔。本實(shí)用新型將電熱管設(shè)置在導(dǎo)熱層下部，既保證了電阻絲不被物料干擾引發(fā)短路，又避免了由于電阻絲受耐高溫管以及還原爐底座與物料架之間的空氣層的阻隔導(dǎo)致的熱利用效率較低的問(wèn)題。