本發(fā)明涉及一種金屬釕的高標(biāo)定率EBSD制樣方法,屬于EBSD樣品制備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將真空燒結(jié)的金屬釕切割成金屬釕樣品;對(duì)金屬釕樣品的待EBSD分析表面或截面進(jìn)行機(jī)械拋光,再采用乙醇對(duì)機(jī)械拋光面進(jìn)行清洗;真空條件下,對(duì)金屬釕樣品的機(jī)械拋光面進(jìn)行能量遞減的氬離子拋光處理,取出樣品即得金屬釕的高標(biāo)定率EBSD樣品。本發(fā)明方法可以解決金屬釕耐蝕性極強(qiáng)不易電解拋光腐蝕的問題,又能有效地去除樣品表面因機(jī)械拋光所產(chǎn)生的表面應(yīng)力層,以及消除高能量離子轟擊樣品表面產(chǎn)生的非晶層,有利于EBSD測(cè)試時(shí)獲得更強(qiáng)的花樣和較高的衍射花樣標(biāo)定率,以便對(duì)金屬釕進(jìn)行微觀組織與織構(gòu)的研究;金屬釕樣品,標(biāo)定率可達(dá)99%以上。
聲明:
“金屬釕的高標(biāo)定率EBSD制樣方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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