本實(shí)用新型涉及一種適用于真空鍍膜機(jī)使用的鍍制各種光學(xué)薄膜的成型鍍膜靶材。該靶材采用與真空鍍膜機(jī)坩堝內(nèi)壁形狀相符的成型塊狀結(jié)構(gòu),其結(jié)構(gòu)形狀為:柱狀、圓臺(tái)狀、錐臺(tái)狀、環(huán)狀、半環(huán)狀、扇環(huán)狀、盤(pán)狀,是由超細(xì)粉狀的鍍膜材料經(jīng)高壓成型后真空燒結(jié)而制成。該靶材具有密度高、晶粒細(xì)小均勻的特點(diǎn),由于采用的是整體成型塊狀,因此使用時(shí)間長(zhǎng),能夠適應(yīng)長(zhǎng)時(shí)間地鍍制多層光學(xué)薄膜,而且在真空鍍膜后,膜厚均勻一致,重現(xiàn)性好,便于實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定批量生產(chǎn)。該鍍膜靶材在使用中更換方便,能夠提高鍍膜效率,提高成品率,降低生產(chǎn)成本,特別適用于高品質(zhì)、高精度光學(xué)產(chǎn)品的鍍膜。