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真空滅弧室用CuCr觸頭材料表面處理方法

1034   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色網(wǎng)  
2023-03-18 14:59:03
一種真空滅弧室用CuCr觸頭材料表面處理方法,觸頭材料進(jìn)行機(jī)加工、清洗、干燥后,采用高能電子束對(duì)材料表面進(jìn)行掃描,獲得厚度約100μm的電子束重熔層,且重熔層內(nèi)Cr顆粒尺寸小于1μm。上述電子束掃描過(guò)程在真空環(huán)境下進(jìn)行,真空度<0.1Pa,電子束掃描頻率為350-450HZ,電壓55-65KV,電流60-70mA。由于經(jīng)電子束掃描后,觸頭材料表面的晶粒明顯細(xì)化,因此其物理機(jī)械性能及電性能均有很大程度改善。
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