本發(fā)明公開了一種片狀硅粒子整流二極管的生產(chǎn)方法,包括下述步驟:步驟一:選取N-型111面芯片進(jìn)行擴(kuò)散工序制得PN結(jié)芯片;步驟二:把所述PN結(jié)芯片制作成為片狀GPP芯片;步驟三:把所述片狀GPP芯片封裝制造成片狀硅粒子整流二極管。本發(fā)明所述片狀硅粒子整流二極管的生產(chǎn)方法不會(huì)產(chǎn)生尖端電場(chǎng)區(qū)域,從而不會(huì)產(chǎn)生尖峰電場(chǎng)使得芯片被擊穿,從而對(duì)芯片起到了一定的保護(hù)作用,并提高了芯片的有效載流面積和耐受電流強(qiáng)度。
聲明:
“片狀硅粒子整流二極管的生產(chǎn)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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