本發(fā)明涉及一種蒸發(fā)鍍膜材料NbO2，并提供了一種制備方法。蒸發(fā)鍍膜材料NbO2其主要成分為包括氧化鈮和三氧化二鋁的混合物，所述氧化鈮與三氧化二鋁混合物的比例為99％～90％∶1％～10％。所述混合物是將所述氧化鈮和所述三氧化二鋁以及還原劑按比例攪拌混合后經(jīng)過真空熔煉而成。所述材料用于以真空蒸發(fā)鍍膜的方式制備Nb2O5薄膜。該薄膜用于光學(xué)濾光片/高反射薄膜的制備。本發(fā)明提供的制備方法，由于使用了C做還原劑，同時(shí)摻雜了Al2O3可以有效降低材料熔點(diǎn)，降低了生產(chǎn)成本。相對(duì)于使用傳統(tǒng)的Nb2O5鍍膜材料而言，使用本發(fā)明所述材料進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜制備Nb2O5薄膜時(shí)，可以有效的提高薄膜表面光潔度；對(duì)于提高薄膜產(chǎn)品的良品率有極大的幫助。