本公開(kāi)提供了一種具有高紅外反射率的微疊層薄膜及其制備方法，步驟包括：采用電射流方法在預(yù)處理過(guò)的基體表面依次沉積金屬間化合物?碳化物復(fù)合薄膜和金屬氧化物薄膜，形成具有多層結(jié)構(gòu)的微疊層薄膜；采用電射流方法沉積多層微疊層薄膜，設(shè)備簡(jiǎn)單、可控性強(qiáng)、沉積速率高，同時(shí)制備的微疊層薄膜致密度高，薄膜表面氣孔少和微裂紋少，且薄膜具有較高的紅外反射率；解決了旋涂法對(duì)實(shí)驗(yàn)環(huán)境要求高且制備的薄膜不均勻和激光熔覆法的激光熔覆設(shè)備昂貴，而且得到的涂層內(nèi)部氣孔較多，涂層組織不均勻，這使得涂層具有較低的紅外反射率的問(wèn)題。