本發(fā)明涉及一種以高純二氧化硅和氫氣為原料制備多晶硅的方法，屬于非金屬礦深加工技術(shù)領(lǐng)域。以高純H2為還原劑、以高純SiO2為硅源，先在高溫1250?1300℃下通入H2，使SiO2被還原成SiO，O與H2反應(yīng)生成H2O；然后再升溫到1350℃通入H2，把溫度控制在1350?1400℃之間。此時(shí)SiO被H2還原成高純Si，SiO中的O與H2發(fā)生氧化還原反應(yīng)后生成H2O，整個(gè)制備過(guò)程對(duì)環(huán)境無(wú)任何污染。