本發(fā)明公開了一種多孔氧化鋁膜層及其制備方法。該多孔氧化鋁膜層的孔徑范圍為5?100nm，厚度為5?100μm。其制備方法包括以下步驟：(1)采用物理氣相沉積方法在多孔金屬基材表面沉積鋁膜；(2)對鋁膜進(jìn)行氣氛退火處理；(3)對退火后的鋁膜進(jìn)行表面清洗和電化學(xué)拋光；(4)利用陽極氧化法對鋁膜進(jìn)行處理，獲得多孔氧化鋁膜。采用本發(fā)明的方法制備的多孔氧化鋁膜層具有膜層孔徑可控的特點(diǎn)，膜層內(nèi)具有規(guī)則有序分布的垂直納米通孔。