本發(fā)明公開了一種低維半導(dǎo)體材料的電子自旋結(jié)構(gòu),本發(fā)明p型CuAlO2。為了進一步探求和澄清磁性半導(dǎo)體材料的磁性起源問題,TM元素Co和Ni摻雜CuAl02的磁學性質(zhì)。選擇具有銅鐵礦結(jié)構(gòu)的CuAl02材料進行研究,主要因為它是天然存在的為數(shù)不多的p型半導(dǎo)體材料之一,通過摻雜可以實現(xiàn)其p型或n型的導(dǎo)電性,從而使這類材料更接近實際應(yīng)用。
聲明:
“低維半導(dǎo)體材料的電子自旋結(jié)構(gòu)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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