本實(shí)用新型涉及一種氧化還原浸出反應(yīng)電位控制裝置,它包括加熱器、空氣壓縮機(jī)、空氣流量計(jì)、充氣管、溶解氧電極、布?xì)夤堋嚢铏C(jī)、ORP電極、pH電極、溶解氧測(cè)定儀、pH/ORP在線監(jiān)測(cè)儀、U型反應(yīng)器、濾菌膜夾層;置于數(shù)顯恒溫加熱器內(nèi)的U型反應(yīng)器的內(nèi)管壁設(shè)有濾菌膜夾層,U型反應(yīng)器凹槽置有攪拌機(jī)、溶解氧電極、ORP電極和pH電極,凹槽內(nèi)形成化學(xué)反應(yīng)區(qū);U型反應(yīng)器管內(nèi)置有活動(dòng)式布?xì)夤?,U型反應(yīng)器11管內(nèi)與管外形成生物氧化區(qū);pH/ORP在線監(jiān)測(cè)儀連接ORP電極和pH電極;溶解氧測(cè)定儀連接溶解氧電極;用充氣管連接配有空氣流量計(jì)的空氣壓縮機(jī)與活動(dòng)式布?xì)夤埽哂袩o(wú)需添加藥劑、電位控制精準(zhǔn)等優(yōu)點(diǎn),適于礦石及礦物化學(xué)氧化浸出。
聲明:
“氧化還原浸出反應(yīng)電位控制裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)