本實(shí)用新型公開了一種在腔室內(nèi)將化學(xué)反應(yīng)氣體水解產(chǎn)生二氧化硅粒子在晶圓片上沉積形成硅膜的可消除火焰水解缺陷的沉積裝置，包括：裝配晶圓片使其旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)臺(tái)，以隔板為準(zhǔn)形成于隔板兩旁的多個(gè)腔室，位于多個(gè)腔室內(nèi)部中心上部并包括使含氧氣和氫氣的燃?xì)夥磻?yīng)產(chǎn)生火焰的噴炬，噴炬被裝配在噴炬臂上，噴炬臂被電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)，將通過燃?xì)夥磻?yīng)產(chǎn)生并未沉積在晶圓片上的硅粒子吸入排出的吸入排出裝置，配備于腔室一側(cè)，利用激光組測定晶圓片沉積厚度的激光測定裝置部；本實(shí)用新型具備多個(gè)腔室，噴炬在持續(xù)火焰的狀態(tài)下在各個(gè)腔室的轉(zhuǎn)臺(tái)之間相互交替作業(yè)，給位于轉(zhuǎn)臺(tái)上部的晶圓片連續(xù)涂覆，從而使生產(chǎn)工藝穩(wěn)定化，并提升了產(chǎn)品的產(chǎn)量。