本發(fā)明公開了一種超薄金屬膜太赫茲吸收層及其制備方法，該吸收層制備在太赫茲探測器敏感單元的頂層。所述超薄金屬膜通過刻蝕減薄較大厚度的金屬薄膜制備，在刻蝕減薄過程中調(diào)節(jié)工藝參數(shù)與刻蝕劑濃度分布，造成微區(qū)刻蝕速率差異，獲得粗糙、多孔、黑化的超薄金屬膜?？涛g的方法有兩種：一種是用反應(yīng)離子刻蝕方法與干法刻蝕的后腐蝕現(xiàn)象將金屬薄膜刻蝕為超薄金屬膜，具有易控制反應(yīng)過程與超薄金屬膜厚度等優(yōu)點；另一種是用濕法化學(xué)腐蝕方法將金屬薄膜腐蝕為超薄金屬膜，具有易控制超薄金屬膜表面形貌與顏色等優(yōu)點。粗糙、多孔、黑化的金屬薄膜表面結(jié)構(gòu)具有高表體比、低反射率的特點，有效增強太赫茲輻射的吸收性能和效率。