本發(fā)明屬于電磁屏蔽實現(xiàn)技術領域，具體涉及一種內(nèi)嵌式金屬網(wǎng)柵的電磁屏蔽光學窗制備方法。該方法包含：(1)通過物理和化學方法清洗光學窗表面；(2)采用電子束蒸發(fā)方法生長制備Y2O3薄膜；(3)熱處理鍍膜后的光學窗口，使薄膜表面產(chǎn)生隨機分布的網(wǎng)狀裂紋；(4)在開裂的薄膜表面沉積金屬薄膜；(5)采用等離子體大角度傾斜刻蝕方法，通過控制傾斜刻蝕時間，有效去除基底表面金屬層，僅保留裂紋內(nèi)部嵌入的金屬材料。該方法不但適應平面光學窗，而且可以在曲面光學窗表面實現(xiàn)可見、或紅外電磁屏蔽效果，在遙感遙測、航天航空、移動通信等軍事和民用領域具有廣泛應用前景。