本發(fā)明提供一種2.5D封裝結(jié)構(gòu)的制備方法,將去除底部金屬層的工藝放置在最后,以使底部金屬層能夠隔離去除第二支撐襯底時(shí)激光照射對(duì)封裝結(jié)構(gòu)特別是芯片的影響,從而保護(hù)2.5D封裝結(jié)構(gòu)保護(hù)所述芯片,提高2.5D封裝芯片可靠性測(cè)試的成功率及成品率;底部金屬層易于形成和去除,不會(huì)增加封裝成本,工藝簡單有效;半導(dǎo)體襯底的第二表面經(jīng)過化學(xué)機(jī)械研磨,提高了半導(dǎo)體襯底的平整度,既能提高后續(xù)封裝中多個(gè)界面的結(jié)合強(qiáng)度,也可降低底部金屬層與TSV導(dǎo)電柱的接觸電阻;TSV導(dǎo)電柱、連接焊盤及金屬凸塊位于同一垂線上,可有效地減小電阻減小信號(hào)的延時(shí)。
聲明:
“2.5D封裝結(jié)構(gòu)的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)